没办法通过正常途径获得极紫外光，所以只能够通过特殊手段来获得。
其中之一，便是需要制造一种直径只有三千万分之一米的小锡球，然后在真空中让它可以每小时三百二十五公里的速度移动。
这就是一个难度系数极高的步骤。
后面还有更多更多的难关等着呢。
如此便要求振华研究所的光刻机实验室、激光器实验室、光学仪器实验室等，在光源系统、光学系统、精密控制技术等方面进行大量的研究和开发，以确保光刻机的性能和精度能够满足最先进的芯片制造需求。
“别急，等我先处理一下这下文件再说。”
陈国华笑呵呵地制止了他们，让他们先回去等着，他等下马上就会去实验室找他们。
过了一会儿之后，他这才来到实验室，跟章济川他们聊了起来。
整个极紫外光刻机的技术原理其实是非常简单的，光源采用气体喷射靶激光等离子体光源或同步辐射光工作气体为氙气。
利用激光能或电能轰击靶材料产生等离子体，等离子体发出极紫外辐射，这些辐射经过由周期性多层薄膜反射镜组成的聚焦系统入射到反射掩模上。
极紫外光波再通过反射镜组成的投影系统，将反射掩模上的集成电路的几何图形成像到硅片上的光刻胶中，从而形成集成电路所需要的光刻图形。
原理很简单，但是难度系数很大。
现在就就困在第一步如何制造出适合的靶材料。
也就是小锡球！
只有三千万分之一米大小的小锡球，这种靶材料的制造，本身难度就很高。
尽管陈国华已经在计划书里面说清楚了，如果想要获得极紫外光，确实只能够制造这种小锡球。
奈何章济川等人联合了设备研发实验室的一众研究员，鼓捣了好几个月，依然是没有什么效果。
此前，陈国华就警告过他们，当时他们还以为这个难度再怎么困难，那也只是五年罢了。
现在看来，肯定不止五年啊。
陈国华了解到他们遇到的技术难点之后，当即便跟他们展开来细说如何解决这些问题。
提及如何制造小锡球这一点，就不得不提极紫外技术对光源的要求。
“前面我们已经提到过了，极紫外光源的产生有两种办法，激光等离子体光源和放电等离子体光源”
“整套系统包括激光器、汇聚透镜、负载、光收集器、掩膜
…。。